上海新阳有独家产品吗？
上海新阳的核心技术是CMP，即化学机械研磨制程，这个制程主要应用于半导体行业，生产晶圆（就是那个芯片载体）的抛光，把晶圆表面各种介质清除，以利于下一步腐蚀露出导线。 由于国内光刻产业被美国全面封锁，因此国内半导体行业目前大部分都用日本进口的电子材料。虽然国产的电子化学品也有，但大都用于非晶硅太阳能电池、液晶显示等，而半导体行业几乎全部使用日本材料。 CMP过程中需要使用到抛光垫和抛光膏，其中抛光垫是一个易耗品，一块抛光垫大约可以使用10次左右；而抛光膏可以反复使用多次，每次使用后经过清洗、再生就可以重新使用了。
因为使用过程是化学与物理作用联合实现的，所以很难区分到底是化学作用还是物理作用产生的损耗，不过按照目前的技术水平来看，物理抛光部分所消耗的材料价值要远高于化学部分。 目前能够进行CMP工艺的供应商并不多，主要有日立化成（HITEC）、DOW CORNING、NGK、京瓷、瓦克等几家国际公司，还有华兴源创、上海新阳、盛美半导体等几家中资企业。由于国内半导体产业的崛起，这几家公司的业绩都得到了很好的增长。
以上海新阳为例， 2016年营业收入为4.85亿元，同比增长77%；净利润为9463万元，同比增长109%。2017年上半年实现营业收入5.35亿元，同比增长78%；净利润为1.30亿元，同比增长128%。
2016年和2017年上半年，因采购进口部件及向下游客户销售收入增加导致汇兑收益增加，上海新阳分别实现投资收益7694万和6998万。若扣除该部分收益影响，公司实际净利润分别为7769万和9796万，同比增长98%和129%。 至于上海新阳的独家产品，这个还真没有，因为整个CMP流程都是开放的，各家公司都可以做。而且像抛光垫这种易耗品，每次使用过后都会残余一些磨料，不同的磨料混合在一起，很难完全分开，故每家抛光垫制造商所提供的磨料成分都是不一样的，这也是对行业竞争格局有影响的一个因素。